之前我们推出了《电子工程师面试会问到的四大问题(上)》,反响不俗,受到很多人追捧,所以为更好助力电子工程师的面试,今天我们将更新下篇,希望对小伙伴们有所帮助。
3、列举几种集成电路的典型工艺,工艺上常提到0.25、0.18是什么?
典型工艺:氧化,离子注入,光刻,刻蚀,扩散,淀积。
制造工艺:我们经常说的0.18微米、0.13 微米制程,就是指制造工艺了。制造工艺直接关系到cpu的电气性能。而0.18微米、0.13 微米这个尺度就是指的是cpu核心中线路的宽度。线宽越小,cpu的功耗和发热量就越低,并可以工作在更高的频率上了。所以以前0.18微米的cpu最高的频率比较低,用0.13微米制造工艺的cpu会比0.18微米的制造工艺的发热量低都是这个道理了。
4、解释latch-up现象和Antenna effect及其预防措施
在芯片生产过程中,暴露的金属线或者多晶硅(polysilicon)等导体,就象是一根根天线,会收集电荷( 如等离子刻蚀产生的带电粒子)导致电位升高。天线越长,收集的电荷也就越多,电压就越高。若这片导体碰巧只接了MOS的栅,那么高电压就可能把薄栅氧化层击穿,使电路失效,这种现象我们称之为“天线效应”。随着工艺技术的发展,栅的尺寸越来越小,金属的层数越来越多,发生天线效应的可能性就越大。
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