近期，美国白宫政府宣布：按照《芯片与科学法案》，英特尔将获得高达30亿美元的直接资金，用于“安全飞地（Secure Enclave）”计划，该计划将为美国政府扩大尖端半导体的可信制造。对此，英特尔联邦兼总经理克里斯·乔治表示：“英特尔很自豪

虽然Intel在芯片先进制程不如台积电和三星电子，但在3nm方面取得了一定的成果，同时还在诸多地方建厂，如火如荼建设，试图在芯片制造产业拿下更多市场。据外媒爆料，Intel在美国俄勒冈州、爱尔兰的两座晶圆厂内投入了3nm级别的新工艺，并进入

如果要说全球芯片先进制程，排在第一一定是中国台湾区域，其次日韩、美国等，中国虽然半导体行业发展蓬勃，但目前是以成熟制程为主。近日，美国半导体协会（SIA）和波士顿顾问公司（BCG）联合发布数据报告，其中显示：随着美国“芯片法案”的推出，预计

自从美国开始在芯片先进制程领域上多方面遏制中国，禁止海外向中国提供先进制程芯片和芯片制造设备，随着时间推移，该政策反而变本加厉！据外媒报道，美国要求禁止日韩荷工程师为中企维修芯片制造设备。据媒体报道内容提到：因对华为开发先进芯片的担忧日益加

如果有关注ASML动态新闻，可以知道，由于移民问题，ASML被爆出有离开荷兰，去其他国家扩张或迁移的想法，作为全球唯一一个能够生产芯片先进制程设备的光刻机巨头，ASML重要性不可言喻，因此美国、法国等积极争取建厂地点，但这个行为可以被喊停了

自从俄乌冲突爆发后，大量半导体厂商宣布退出俄罗斯市场，俄罗斯虽然重工业发达，但在半导体方面严重落后欧美国家，为此，俄罗斯必须付出种种努力，大力发展本土半导体产业。据外媒CNews报道：俄罗斯国家技术集团旗下Roselectronics已经开

如果要评选全球最早研发2nm芯片先进制程工艺的半导体厂商，台积电绝对当仁不让，然而很多专家及业界人士纷纷预测，台积电要多久才能研发2nm工艺？据外媒报道，自从3nm制程工艺开始在2022年12月29日商业化，台积电已经将工艺研发及量产重点转

如果要评选全球最优秀的半导体制造厂商，韩国三星电子和SK海力士等都可以进入榜单，然而由于地缘政治事件频发，这些企业开始担忧是否会涉及到他们。据外媒报道，随着工艺不断升级迭代，三星、SK海力士等芯片制造商不可避免要频繁更换芯片制造设备，通常情

众所周知，美国在半导体芯片先进制程、人工智能（AI）、制造设备等多项关键领域及技术设下种种限制，试图通过这些措施来打压我国本土半导体产业发展，如今，制裁范围再度扩大，这次是云。据国外媒体报道：美国试图在AI方面上对中国企业实施更大的打击，除

了解过半导体行业的人都知道，芯片制造非常难，尤其是我国还面临着技术及设备限制，在先进制程上屡屡受挫，所以付出了诸多心血，终于取得初步成绩，可以制作出7nm芯片，但目前我国现阶段以成熟制程为重点。近日，知名市场调研机构TrendForce发表

若是评选全球半导体制造厂商，台积电绝对是当仁不让的第一名，凭借着先进制程的芯片制造优势，一举拿下苹果、高通、英伟达等大客户，目前已经做到3nm芯片制程量产，2nm芯片制程准备投产等阶段。因此有很多人好奇，下一个芯片制程是多少nm？近日，台积

随着时代高速发展，芯片迭代更新速度大大加快，目前已发展至3nm先进制程工艺，虽然仅有台积电和三星电子目前能制造出，但根据摩尔定律，有很多人在猜测2nm芯片何时出？据媒体报道，台积电即将敲定其未来3nm和2nm支撑客户，除了众所周知的苹果之外

了解集成电路的人都知道，芯片的制造工艺可分为成熟制程和先进制程，由于技术及机器原因，我国对先进制程工艺仍在5-7nm来回，但对于成熟制程，我国在全球集成电路市场上可以说有一战之力，然而最近国内厂商可能不好过。近日，台媒爆料：成熟制程景园代工

众所周知，随着芯片先进制程工艺的提升，必然带来的是研发难度几何指数增长，作为全球最优秀的晶圆代工厂商——台积电，研发3nm制程就遇到了不少难关，如良品率、原材料上涨、光刻机等。然而，近日台积电总裁魏哲家在法人说明会上披露：台积电有望在202

众所周知，全球可从事芯片先进制程工艺的晶圆厂商非常少，目前仅有台积电、三星电子、英特尔等，其中台积电和三星电子是最早代工3nm工艺并取得一定成果。然而，据外媒报道，作为当前全球最先进的晶圆代工厂商，台积电和三星的3nm制程工艺良品率均未超过

提起《芯片法案》，可能很多人都会想到美国拜登政府推出的《芯片和科学法案》，补贴甚至高达530亿美元，但本文所说的《芯片法案》是来自欧洲。据央视新闻报道，当地时间9月21日，欧洲《芯片法案》正式生效，根据欧盟委员会的公告显示，该芯片法案他过了

随着台积电和三星在芯片先进制程的不断钻研，芯片的摩尔定律即将达到物理极限，研发5nm以下的芯片难度翻倍增长，面对2nm芯片良品率低和成本高昂、性能表现不佳等的困境，或许NVIDIA能够帮上忙。近日，NVIDIA春季GTC技术大会如期召开，作

众所周知，芯片的研发规律主要遵循摩尔定律，也就是每18个月到两年间，芯片的性能将翻倍增长，但由于随着芯片先进制程的提升，芯片难以达到极限，遇到技术瓶颈，所以很多人认为基于磁性材料发展建立的自旋电子学以及磁子电子学，有望帮助芯片突破物理极限。

很少人知道，除了光刻机之外，半导体芯片先进制程的最大关键还有光刻胶，而全球光刻胶市场基本上是以美日公司为垄断，我国很少在光刻机和光刻胶领域上占得优势，如今好消息传来，我国国产高端光刻胶已获得重大突破！近日，国产公司晶瑞电材在互动平台上表示透

据报道，目前英特尔方面已经完成了代号为Intel 20A（2纳米级）和Intel 18A（1.8纳米）芯片制造工艺的研发。需要强调的是，这两项新工艺节点尚处于早期研发阶段，离真正可以用于大规模商业量产还非常遥远，一旦完善成熟之后，这两项工艺