芯片制造业中最关键的技术包括以下几个方面：光刻技术：光刻是芯片制造的核心工艺之一，通过将电路设计图案转移到硅晶片上，形成微小的电路结构。随着技术的发展，极紫外光（EUV）光刻技术的引入使得更小的特征尺寸得以实现，推动了芯片的微型化和性能提升

虽然现在许多半导体厂商正在钻研先进芯片制程，即便是最先进的光刻机，也只能做到生产2nm芯片，但不少科学家及研究所仍在持续探索提升光刻机的综合性能，目前，他们认为用于产生光源的激光器或将是新的突破口。据外媒Tom's Hardware报道，美

晶体管的尺寸不断减小主要得益于以下几个关键技术和方法：1. 光刻技术光刻技术是芯片制造中最重要的步骤之一。它利用光将电路图案转印到硅片上。随着技术的进步，使用更短波长的光（如极紫外光，EUV）可以实现更高的分辨率，允许制造更小的结构。2.

集成电路制作工艺通常包括以下六大步骤：排版（Layout）：设计芯片的布局，确定各个功能模块的位置和连接方式。掩膜制作（Mask Fabrication）：使用蚀刻光刻工艺在硅片上制作掩膜，形成电路的图案。沉积和蚀刻（Deposition

虽然日本现在半导体制造日渐落山，但瘦死的骆驼比马大，放在全球依然有很高的市场份额。目前以索尼、佳能等为首的日本制造厂商正在寻求机遇，试图重振日本雄光。近期，佳能公司宣布，已在9月26日向总部位于美国得克萨斯州的半导体联盟——德克萨斯电子研究

如果要评选哪家厂商生产CMOS最强？那一定是日本的索尼，凭借该业务，索尼牢牢占据全世界相机市场的主流版图，不论是旗舰手机，还是高端全画幅、中画幅相机，索尼的CIS都是遥遥领先的存在。近期，晶合集成宣布与思特威联合，成功推出业内首颗1.8亿像

自从以美国为首的欧美国家开始宣布将对俄罗斯实施多方面制裁，各大半导体厂商纷纷退出俄罗斯市场，为发展本土产业，俄罗斯必须攻克难关，完善自己的工业体系。据外媒报道，俄罗斯首款光刻机已经制造完成，并现在正在进行测试中。按照俄罗斯联邦工业和贸易部副

如果有关注ASML动态新闻，可以知道，由于移民问题，ASML被爆出有离开荷兰，去其他国家扩张或迁移的想法，作为全球唯一一个能够生产芯片先进制程设备的光刻机巨头，ASML重要性不可言喻，因此美国、法国等积极争取建厂地点，但这个行为可以被喊停了

众所周知，荷兰ASML由于美国强制要求，无法对中国出口先进芯片设备，如光刻机等，然而这些还不够，美国再次提出强硬要求！据外媒报道，在美国联合日本、荷兰升级对于半导体设备的出口限制之后，美国正要求荷兰盟友对中国芯片制造设备的维护施加更多限制。

近年来，“芯片制造”开始成为了热词，其中最夺目的莫过于主角“光刻机”，但在芯片制造工艺中，除了光刻工艺外，还有其他多个重要工艺步骤，这些步骤和光刻一起共同促成了芯片的诞生！下面一起来看看有哪些工艺值得关注？1、晶圆制备晶圆制备是芯片制造的起

如果说，谁是会赚钱的芯片设备厂商，荷兰光刻机厂商ASML绝对榜上有名，作为全球唯一能制造芯片先进工艺的光刻机厂商，ASML一直是众多大厂的关注对象。据外媒报道，三星电子近日发布审计报告，在该报告中显示，三星电子在2023年第四季度已抛售所持

半导体硅片，也叫做硅晶圆片，是由硅单晶锭切割而成的薄片，是半导体、光伏等行业广泛使用的基底材料。半导体硅片有多重要？凡是各种电子元器件及光伏材料，如二极管、集成电路等，均是由硅片进行光刻、离子注入等手段将其制作而成的，可以说，半导体硅片产业

众所周知，光刻机被誉为“芯片之母”，在芯片制造过程中扮演着至关重要的角色，造价昂贵，数量稀少，因此是高精度高密度的尖端设备，发展多年，至今只有ASML可生产先进工艺的光刻机。近日，俄罗斯公开表示正在研发光刻机，最快将在2024年出成果，据俄

在EUV光刻机被断供前，中国厂商就已经疯狂抢购ASML光刻机，并且达到了一个可观的数量，那么你知道，目前中国有多少个光刻机？ASML刚好给出了答案。近日，ASML全球副总裁、中国区总裁沈波字第六届中国国际进口博览会上接受媒体采访时透露过：到

众所周知，随着芯片先进制程工艺的提升，必然带来的是研发难度几何指数增长，作为全球最优秀的晶圆代工厂商——台积电，研发3nm制程就遇到了不少难关，如良品率、原材料上涨、光刻机等。然而，近日台积电总裁魏哲家在法人说明会上披露：台积电有望在202

众所周知，为打压中国半导体行业发展，美国的制裁可谓是无所不及，短短四年内，从EUV光刻机到高性能计算芯片等，列出了多项严格的限制。如今这些制裁范围又要升级！近日，美国拜登政府宣布将计划正式出台一系列新的限制措施，包括限制向中国出口更先进的人