（本文编译自Semiconductor Engineering）支撑人工智能革命的先进制程芯片需求呈现爆发式增长，正持续考验全球半导体产业的供给能力。从支撑大语言模型的超大规模数据中心，到智能手机、物联网设备和自动驾驶系统的边缘AI，各领域对尖端半导体的渴求已形成叠加效应。然而，这类芯片的制造高度依

芯片制造业中最关键的技术包括以下几个方面：光刻技术：光刻是芯片制造的核心工艺之一，通过将电路设计图案转移到硅晶片上，形成微小的电路结构。随着技术的发展，极紫外光（EUV）光刻技术的引入使得更小的特征尺寸得以实现，推动了芯片的微型化和性能提升

晶体管的尺寸不断减小主要得益于以下几个关键技术和方法：1. 光刻技术光刻技术是芯片制造中最重要的步骤之一。它利用光将电路图案转印到硅片上。随着技术的进步，使用更短波长的光（如极紫外光，EUV）可以实现更高的分辨率，允许制造更小的结构。2.

在EUV光刻机被断供前，中国厂商就已经疯狂抢购ASML光刻机，并且达到了一个可观的数量，那么你知道，目前中国有多少个光刻机？ASML刚好给出了答案。近日，ASML全球副总裁、中国区总裁沈波字第六届中国国际进口博览会上接受媒体采访时透露过：到

众所周知，为打压中国半导体行业发展，美国的制裁可谓是无所不及，短短四年内，从EUV光刻机到高性能计算芯片等，列出了多项严格的限制。如今这些制裁范围又要升级！近日，美国拜登政府宣布将计划正式出台一系列新的限制措施，包括限制向中国出口更先进的人

在半导体制程技术进入5nm先进工艺后，EUV光刻机已成为不可或缺的关键设备，但由于能制作的EUV光刻机厂商仅有ASML，而且产能有限、造价高昂，每台售卖超1亿美元，相当高的条件，决定了现在的芯片成本越来越贵。然而，日本佳能（Canon）号称

在半导体制造设备中，光刻机毫无疑问是最重要的核心设备，直接决定着芯片工艺的先进程度，目前最先进的光刻机是荷兰光刻机制造厂商ASML研发的EUV光刻机，可制造7nm以下的工艺，售价约10亿元左右。美国打压中国所采取的措施之一就是强制ASML向

为抑制中国本土半导体厂商发展，美国做出了相当多的措施，其中之一是劝说荷兰加大中国禁令强度，因为荷兰坐拥全球唯一一个EUV光刻机设备生产商ASML。据路透社报道，近日荷兰首相马克·吕特（Mark Rutte）表示：荷兰已与美国在对中国芯片出口

随着芯片逐渐成为各国综合国力的重要指标，华为中芯国际等中企被美国重压制裁，作为“芯片之母”的EUV光刻机更是受到了极大的关注，然而很少人知道，EUV光刻胶也同样重要，毫不夸张地说，没有EUV光刻胶，EUV光刻机就无法生产芯片。近日，三星电子

自从中美贸易战的战火涉及华为、中芯国际等企业，美国以断供芯片和EUV光刻机手段重压制裁，人们开始第一次意识到作为“芯片之母”的EUV光刻机的重要性。若是中国想在半导体领域上有所成就，不受限他国，EUV光刻机的研发是不可或缺的。近日，华为近日

众所周知，若是要制作先进芯片，离不开EUV（极紫外）光刻机，不管是世界一流的芯片代工厂商台积电、三星、Intel等，都需要和EUV光刻机厂商ASML打好关系，然而有个厂商却宣布成功绕过EUV光刻机打造出先进芯片？近日，美国内存芯片龙头企业美

全球唯有台积电和三星能够制作5nm以下工艺的晶圆代工，然而随着芯片工艺制程的提升，研发难度越来越高，发布时间也越来越少，这也造成很多人说摩尔定律将死。纵观台积电的路线发展图，台积电将在2022年年底量产3nm工艺，2025年量产2nm，在此

之前，随着中美贸易战愈发激烈，作为全球知名的，唯一一个能够制造EUV光刻机等先进芯片制造设备的半导体厂商，ASML开始走入国人的眼里，那么很多人就好奇了，难道ASML就靠光刻机一家独大吗？诚然，在媒体和博主的科普下，大家对ASML的了解是它

随着微电子高速发展，我国虽然在半导体芯片领域上起步较晚，甚至部分核心技术仍被海外垄断，但在政府扶持及企业重视，我国在硅基芯片上取得初步效果，但我们也不能忽视光子芯片。和常见的硅基芯片不同，光子芯片的工作原理跟硅基芯片不同，运算速度可提升10

近日，美国成功制造出0.7nm芯片的消息正在席卷科技界，引发业界热议，连世界最先进的芯片代工厂商台积电和三星至今仍未突破2nm以下的技术限制，美国是怎么实现0.7nm芯片？据了解，该消息来自美国Zyvex Labs，9月21日，Zyvex

台积电目前是全球最大也是最先进的晶圆代工厂，唯一能在技术上跟进他们的现在只有三星了，然而三星的工艺跟台积电相比似乎总是差那么一点点。之前的工艺就不说了，三星是全球第一个宣布量产7nm EUV工艺的，而且是在第一代7nm上就用了EUV工艺，今

根据Intel的芯片工艺路线图，到2025年之前他们要在短短4年内掌握5代CPU工艺，其中有2代还是首次进入埃米级工艺，今年下半年将要量产Intel 4工艺，也就是对标友商的”4nm“工艺，也是Intel首款使用EUV光刻机的工艺。目前台积

光刻机是半导体产品制作中的核心设备之一，EUV光刻机更是芯片制作的核心设备，全球中只有阿斯麦尔（ASML）公司能研发、生产、出口，制作EUV光刻机难度非常大，需要集齐多国零件和多种工艺技术，中国美国欧洲等多个国家投入资金研发EUV工控机都是