為了使光學工程師在分享設計檔案的同時，能夠隱藏特定的內部資訊，OpticStudio加入了黑盒子(Black Box Lens surface)的功能。這篇文章說明了如何在模擬軟體中，將部分或整個光學系統包裝成黑盒子的形式，以及如何在後續的光學模擬中使用黑盒子進行設計、優化和分析。

在光學設計的流程中，客戶和供應商有時候會需要可進行光線追跡(ray-traceable)的檔案來完成任務。另一方面，在設計者的立場上，一些有關公司智慧財產權的資訊是不能被公開的。在這種情況下，後續的作業很難只依靠光瞳大小(pupil size)、成像位置(image location)等有限的資訊繼續進行設計。為了有效解決類似的問題，OpticStudio提供了黑盒子(Black Box Lens)工具。

在使用上，黑盒子(Black Box Lens Surface)提供了所有光線追跡需要的資訊，可以保證光學系統得到如同在鏡面編輯器(Lens Design Editor)中輸入完整參數一樣的模擬結果。同時，系統會以256位元的標準對黑盒子進行加密，使該部分的元件被隱藏。

這篇文章將說明如何在設計中產生及使用黑盒子(Black Box Lens)的功能。

設計者可以隨時在光學系統中加入黑盒子(Black Box Lens Surface)的結構，但我們通常會選擇在設計完成後再進行這個步驟。在使用這個功能時，我們建議先在光學系統中加入兩個虛擬面(dummy surface)，並將想要包裹進黑盒子的光學元件置於這前後兩面之間。虛擬面所圈出的大小相當於此光學系統的外殼範圍 (也可以是外殼的延伸，較原始結構稍大一些)或是在光瞳的位置。

在範例檔案中(下載連結位於文章頂端)，我們的目標是針對一個雙高斯鏡頭(double-Gauss objective)進行改造。在這個設計中，我們將虛擬面視為光學架構的外殼，並將數個鏡面裝入其中。

為了讓OpticalStudio能依據每一個光學元件的尺寸進行光暈(vignetting)的計算，我們必須確保範圍中每個面都有固定的光圈大小(fixed aperture)。而利用鏡頭數據編輯器(LDE)中的光圈(Aperture)工具將半直徑(Semi-Diameter)轉換為環狀光圈(Circular Aperture)，可以讓我們輕易的達到前述的目標。在選擇光圈形態(Aperture type)時，除了使用者自訂光圈(User Defined Aperture, UDA)外，其餘的的類型都可以用來界定每個光學元件的實際範圍。

在File工具列中點擊Zemax Black Box建立黑盒子。

我們建議設計者勾選 '在黑盒子產生後載入測試檔案(Create and load test file after black box export)' (如預設條件)。在這個情況下，OpticStudio會在產生黑盒子的同時，將定義範圍內的表面刪除。接著在光學設計中放入黑盒子，並以 '{原始名稱}_BB.zmx' 的檔名儲存。這個簡易卻十分重要的步驟可以讓我們確認黑盒子檔案成為了最終的輸出檔案。最後，這個新的檔案將會自動的被開啟。

如上圖，透過橫截面(Cross-section)的佈局圖，我們可以確認黑盒子檔案的光線追跡(ray-trace)結果會與原始檔案一致。

在模擬的過程中，根據 '黑盒子(black box)' 的特性，一些可預期或是令人意外的結果可能會產生。如同原始的光學系統，光線由黑盒子的前表面入射，最後由後表面離開。在產生等效光線路徑的同時，所有表面的資訊卻都能被完美地隱藏。除此之外，還有一些可能使你感到驚豔的小細節:

• 如上述所言，所有的表面資訊都會被隱藏在黑盒子內，不能被指定為分析功能(analysis feature)、優化操作數(optimization operand)或ZPL指令的對象。舉例而言，設計者無法對黑盒子檔案進行公差(tolerance)和熱變化(thermal)的分析。一旦黑盒子設定完成，任何針對盒子內部的變更都是不被允許的。另一方面，黑盒子外部的光學元件還是能被分析和優化。

• 一般而言，OpticStudio能區別因不同原因而無法順利抵達像面的光線，並分別給予不同的錯誤代碼(error code)。當系統無法找到光線和表面合理的交點時，通常會有以下幾種狀況: (a)光線無法通過光圈(aperture)，而形成減光的結果 (b)光線在介面產生全反射 (c)光線超出表面等。當OpticStudio對黑盒子進行光線追跡時，僅能得知進入盒內的光線未能順利離開，此時會產生 '光線錯誤(Ray Miss)' 的情況。注意，當主光線(chief ray)不能被追跡時，例如望遠鏡中 '中心遮攔(central obscuration)' 的現象。此時由於缺乏主光線的參考，因此無法成功計算出波前(wavefront)。

• 使用者無法由黑盒子內部的光學面獲取光線資訊，因此物面、光欄及像面部各設置在黑盒子內部。OpticStudio在進行計算時，需要直接存取(direct access)這三個面的光線資訊。

• 此外，因為在黑盒子結構中只有出射光的資訊是可以得知的，所以沒有半進行物理光學方面的分析。但由 '快速傅立葉變換(FFT)' 及 '惠更斯子波(Huygens'  wavelets)' 兩個方法產生的PSF和MTF分析能可順利進行。

• 黑盒子結構所選定的表面可能包含Coordinate Break和surface tilts/decenters，但需要特別留意的是黑盒子的第一個面及最後一個面必須位在同一個空間座標。

由於黑盒子的厚度會影響到其他光學元件的排列，因此這個數據是會顯示在鏡頭數據編輯器(LDE)上的。然而，這並不會透露任何黑盒子內部的資訊，僅代表光線的入射及出射平面。此外，由於黑盒子的厚度不能被改變，所以這個結構必須被設置在和原始光學元件相同的’鏡像空間(mirror space)’。(經面鏡反射後，光學元件的厚度須更改為負值，但黑盒子的參數無法被變更，如此一來模擬會產生錯誤。) 假如原始光學元件位在鏡子後方，則包裹後的黑盒子也必須放在同一個位置。

注意: ‘Zernike surface’是Zemax黑盒子(Black Box tool)的另一個替代方案。這個功能允許像差資料根據單一場點(field point)、波長和共軛比例(conjugate ratio)做定義。

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