凡亿专栏 | 俄罗斯加快自研光刻机,可生产7nm芯片
俄罗斯加快自研光刻机,可生产7nm芯片

近年来,欧美国家对俄罗斯实施了一系列经济和科技制裁,其中就包括限制俄罗斯企业使用EDA先进软件和制造设备,为摆脱海外限制,俄罗斯正在努力寻求新的解决方案。

尽管受到制裁的影响,俄罗斯的科技企业仍在积极寻求解决方案以应对这些挑战。俄罗斯媒体爆料声称,为推进自研光刻机进度,俄罗斯已敲定了相关的合作伙伴。

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据了解,俄罗斯将为两大白俄罗斯微电子领域项目提供约100亿卢布信贷支持,受资助企业主要包括集成电路成套工艺的Instegral和精密光刻设备领域的Planar。

白俄罗斯还表示:已签署了关于建立两国光掩膜开发和生产联合中心的协议,”这将使我们能够开展联合开发工作并减少白俄罗斯和俄罗斯消费者对进口供应的依赖”。

根据以往的消息,俄罗斯大诺夫哥罗德策略发展机构发豪语,宣称俄罗斯科学院旗下应用物理研究所将会跌破所有人眼镜,在2028年开发出可以生产7纳米芯片的光刻机,还可击败ASML同类产品。

在这之前,作为一个拥有庞大科技人才和资源的国家,俄罗斯一直在积极发展本土的科技产业。然而,随着外部制裁的加强,俄罗斯的科技企业面临着巨大的压力。据报道,美国、加拿大和欧盟等多个国家已限制向俄罗斯出口先进的电子器件和软件技术ARM也无法将技术授权给俄罗斯芯片设计师,这对俄罗斯的高科技行业产生了不小的冲击。

这些制裁措施意味着,俄罗斯的科技企业将难以获得先进的电子器件和软件技术,这可能会对其产品的研发和生产产生重大影响。此外,这些制裁措施还可能导致俄罗斯科技产业的长期发展受到限制,从而影响到俄罗斯经济的增长。

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