众所周知,光刻机被誉为“芯片之母”,在芯片制造过程中扮演着至关重要的角色,造价昂贵,数量稀少,因此是高精度高密度的尖端设备,发展多年,至今只有ASML可生产先进工艺的光刻机。
近日,俄罗斯公开表示正在研发光刻机,最快将在2024年出成果,据俄罗斯工业和贸易部副部长Vasily Shpak表示:2024年将开始生产350nm光刻机,在2026年启动用于生产130nm制程芯片的光刻机设备。
俄罗斯表示,目前全球仅有荷兰的ASML和日本的尼康可生产这些光刻机,因此,俄罗斯要改变这个格局,打造专属光刻机。
现在俄罗斯已经掌握了使用外国制造设备的65nm技术,但由于某些原因(因美国原因,外国公司不得向俄罗斯出口现代光刻设备及原料),无法生产光刻机,因此俄罗斯正在加快步伐开发自己的生产设备。
在这之前,来自圣彼得堡理工大学的研究团队刚研发出一种“国产光刻复合体”,可用于蚀刻生产无掩膜芯片,这使得“解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题”成为可能。
此外,俄罗斯大诺夫哥罗德策略发展机构发豪语,宣称俄罗斯科学院旗下应用物理研究所将会跌破所有人眼镜,在2028年开发出可以生产7纳米芯片的光刻机,还可击败ASML同类产品。
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