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凡亿课堂 | 电子设计:半导体ICP刻蚀原理,气体和功率的选择
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电子设计:半导体ICP刻蚀原理,气体和功率的选择
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皮特派
厦大硕士,B站up主,从事芯片设计和算法研发十余年,先后任职于多家国内知名芯片公司以及创业团队,担任算法经理和数字开发经理。精通WiFi、射频数字校准、ADC、数模混仿等领域。拥有国家发明专利4项。
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