为确保电子产品的顺利上市，集成电路（IC）不能缺少“流片阶段”，在流片前，设计规则检查（DRC）与版图与电路图一致性检查（LVS）是确保芯片成功制造并符合预期功能的关键步骤。1、电容长宽比检查确保电容长宽比合理，避免电场分布不均，影响性能。