随着台积电和三星在芯片先进制程的不断钻研，芯片的摩尔定律即将达到物理极限，研发5nm以下的芯片难度翻倍增长，面对2nm芯片良品率低和成本高昂、性能表现不佳等的困境，或许NVIDIA能够帮上忙。

近日，NVIDIA春季GTC技术大会如期召开，作为NVIDIA炫技的主要舞台，NVIDIA可谓是大放光彩，推出的产品及技术都眼花缭乱，然而指得关注的是，NVIDIA推出cuLitho软件加速库，可将计算光刻的用时提速40倍。

据了解，计算光刻是指为芯片生产制作光掩模的技术，而掩膜是一种平面透明或半透明的光学元件，上游芯片加工所需的图案，按照其是否需要曝光将图案转移到光刻胶层上，光刻加工过程后，通过控制光刻机的曝光和开关操作，可将光束根据掩膜上的图案进行分割和定位，使得光束只照射到需要曝光的区域，从而将芯片上的图案转移到光刻胶蹭上，实施芯片光刻。

然后每种芯片都要进行多次曝光，所以光刻中所使用的的掩膜数量不一定相同，举个例子，Intel的14nm CPU需要50多张掩膜，但NVIDA的H100却需要89张掩膜。这些过程都严重依赖CPU服务器集群。

但若是借助NVIDIA的工具，NVIDA表示：500套DGX H100（包含4000颗Hopper GPU）可完成与4万颗CPU运算服务器相同的工作量，但速度快40倍，功耗低9倍。这意味着，GPU加速后，生产光掩模的计算光刻工时可从几周减小到八小时。

如此高的效率，使得ASML、台积电、新思科技等纷纷下单，新思科技甚至将该技术集成到其EDA工具，讲服务2nm以上更高精度的制程。

NVIDIA认为，新技术可以实现更高的芯片密度和产量，按照更好的设计规则以及借助人工智能驱动光刻行业前进。