自华为、中芯国际等中企被美国拉入黑名单，意味着中美贸易战从政治经济层面提升到科技战，近两三年来，美国一直在对我国芯片产业及相关半导体产业采取打压措施政策，禁止ASML等设备厂商售卖先进工艺设备，禁止谷歌高通等售卖科技服务等。

国产自主芯片产业也因此奋发，提出“国产全面化”口号，在政府公司大力扶持下，取得初步良好效果，然而刚刚迎来一个坏消息，美国再度向荷兰施压，要求芯片光刻机制造商ASML向中国出口光刻机，这次的范围将延伸到上一代采用DUV技术的光刻机（制造能力最高可生产7nm制程的芯片）。

需要注意的是，早在两年前，美国就已经施压ASML，禁止向中国售卖可以制造5nm及以下制程芯片的EUV光刻机。

据彭博社报道，美国近期正在游说荷兰政府，希望能够禁止ASML向中国出口光刻机，涉及的相关技术还是老款DUV光刻机，智能生产7nm以上制程的芯片。

据了解，该项举动早在一个月前已有苗头，美国商务部副部长唐·格雷夫 （Don Graves）访问荷兰时，曾专门拜访了ASML的总部，并和ASML首席执行官彼得·温宁克 （Peter Wennink）进行会面。

与此同时，除了荷兰的ASML，日本也因为尼康具有制造DUV光刻机的能力，也受到了美国政府的压力，禁止向中国出口DUV光刻机。

若消息属实，这意味着美国已开始对中国芯片产业进行采取全面围堵措施，而我国芯片产业将受到一定的致命影响，因为目前我国能够自主制造的芯片制程还停留在28nm，7nm工艺由于设备限制等因素未能大规模推广。

目前，针对上述的问题，美国商务部和荷兰外交部均表示拒绝发表任何评论，同时ASML和尼康公司仍未做出实质性的回应。