凡亿专栏 | 俄罗斯计划研发全新EUV工控机,号称比AMSL强
俄罗斯计划研发全新EUV工控机,号称比AMSL强

光刻机是半导体产品制作中的核心设备之一,EUV光刻机更是芯片制作的核心设备,全球中只有阿斯麦尔(ASML)公司能研发、生产、出口,制作EUV光刻机难度非常大,需要集齐多国零件和多种工艺技术,中国美国欧洲等多个国家投入资金研发EUV工控机都是铩羽而归。

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光刻机的结构和技术非常复杂,尤其是光刻机的分辨率,而决定它的因素主要有常熟K、光源波长及物镜数值孔径。波长越短,光刻机分辨率越高,目前ASML的EUV光刻机使用的光源是极紫外广EUV(波长为13.5nm),作用是制造7nm以下的先进工艺,是台积电三星英特尔等多家公司常用的光刻机。

据外媒报道,俄罗斯计划开发全新的EUV光刻机,采用X射线技术,这样就能无需光掩模可生产芯片,减少繁琐环节。

据悉,负责研发EUV光刻机是由俄罗斯莫斯科电子技术学院(MIET),MIET已接下俄罗斯贸工部的6.7亿卢布(约5100万元人民币),声称要打造达到EUV级别的光刻机。

虽说是打造EUV级别的光刻机,但技术原理不同,据MIET负责人说法,它们研发的是基于同步加速器和/或等离子体源的无掩模X射线光刻机。

X射线光刻机使用的是X射线,波长介于0.01nm到10nm之间,比EUV极紫外光短,故而光刻机分辨率极高,此外X射线光刻机无需光掩模,可直接写入光刻,这将减少繁琐环节,大大节省了金钱时间。

正是由于这两个优势,俄罗斯当地媒体宣传声称要研发的X射线光刻机是全球都没有的光刻机,连ASML都做不到。

从相关资料来看,全球确实是没有能达到规模生产的X射线光刻机,只是不能否认的是,中国、美国、欧洲等也尝试过研发X射线光刻机,只是生产效率极低,无法达到量产芯片的规模。

有人看好俄罗斯,也有人不看好俄罗斯,前者在于俄罗斯地广人多,物资丰富,军事技术极为优越,在X射线机等离子技术上颇有建树。当然俄罗斯只用6.7亿卢布短时间内研发X射线光刻机,可以有些异想天开,毕竟ASML研发EUV光刻机投入资金已超数百亿美元,加上集齐多种来自各个国家的零件组装和重要技术。

但我们可以期待俄罗斯在新型光刻机上的研发,或许来自北国的人真的能为我们点燃山多拉之灯呢。

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