在半导体制造设备中,光刻机毫无疑问是最重要的核心设备,直接决定着芯片工艺的先进程度,目前最先进的光刻机是荷兰光刻机制造厂商ASML研发的EUV光刻机,可制造7nm以下的工艺,售价约10亿元左右。
美国打压中国所采取的措施之一就是强制ASML向中国断供EUV光刻机,给我国半导体产业链带来了一定的障碍。这时会有很多人好奇,研发EUV光刻机有多难?除了ASML全球还有别的公司可以制造出来吗?
针对这些问题,近日ASML公司在财报会议上谈到EUV光刻机的研发难点,所以我们来看看研发EUV光刻机有多难?
据ASML表示,和其他企业相比,ASML的最大优势是制造产业链非常强大,是由数百个供应商所组成,而且每个供应商在各自行业均是世界级别的,其中包括通快、蔡司、VDSL等。
如此庞大且精英的供应商组合,必然要求ASML投入庞大的投入资金,有资料表示,光是ASML的投入资金,就高达数十亿美元。
当然,研发EUV光刻机需要的不止是砸钱,还有杀手锏,即专利研发和研发团队,组织研发团队和数百家供应商,就花了ASML长达40年时间,难度极高。
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