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凡亿专栏 | BGA的三大关键工艺详解分析
BGA的三大关键工艺详解分析

在电子制造业中,BGA(Ball Grid Array,球栅阵列)封装技术因其高密度、高可靠性的特点被广泛应用,而BGA的制造过程中涉及了多个精细工艺步骤,这些工艺的组合极大确保了 最终产品的质量与性能,下面将谈谈BGA制造过程中的几个关键工艺。

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1、铲平前塞孔

此工艺特别针对BGA塞孔处阻焊层单面露出或部分露出的情况,当两种塞孔孔径差异达到1.5mm时,无论阻焊层是否双面覆盖,均推荐采用此工艺,其目的在于预先填充塞孔,为后续加工提供平整的表面基础。

2、阻焊塞孔

专用于处理BGA塞孔处阻焊层双面覆盖的电路板,此工艺通过特定的填充材料将塞孔完全封闭,并在阻焊层之下形成稳定的结构,以此增强电路板的整体强度与绝缘性能。

3、整平前后的塞孔

针对厚铜箔板或具有特殊需求的电路板而设计,此工艺涉及在电路板表面整平(如电镀、压平等)前后进行塞孔处理,以确保塞孔质量不受整平过程影响,所处理的钻孔尺寸涵盖0.25mm至0.55mm多种规格,以此满足不同设计与性能要求。


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